在温室小型西瓜抢早栽培中，利用植物叶片趋光的特点，将小型西瓜的主蔓和一条侧蔓先后绕在同一根绳上，增加单位面积功能叶片数量及瓜扭数，达到增加种植密度、提高坐果率和单果重，进而取得增产的目的。一般采用垄距1.4~1.5米，株距30~35cm，1垄双行，密度2500-3100株/亩。在采用这项技术时，应注意选择高密品种，加大底肥及追肥量，大约是原来施肥量的1.2~1.5倍。同时水肥及时供给，加强温室的通风管理。

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